该晶圆制造技术厂靠近华东各地各地，一般制造制造89英寸半导体芯片晶圆，平均污废水 排污量约800吨。主要是因为制造制造的过程 中运行很大盐酸做晶圆蚀刻，以至于污废水 中氟化物浓度值高达模型200-300mg/L，远超的国家排污要求（10mg/L以上）。 污废水 化学物质及主要来源 生活污水具体源于5个过程： 晶圆蚀刻流程 ：含高氨水浓度氟化物（HF）、硝酸钠及大量高价属 生物学机械制造增加光泽（CMP）废液 ：含纳米技术级硅粒状、有机会络合剂 设施家电清洗废液 ：含异丙醇、高锰酸盐指数等设计物 整理技艺步骤流程 主要包括"物理滤渣+混泥土滤渣+长度滤过"三级视频正确处理体统： 五级解决 ：加药氯化钙和氢硫化钙，出现氟化钙凝固，氟化物快速清理率达85% 中级治理 ：调用PAC（聚合反应氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），出掉电解质溶液态被污染物质 三级考试处理 ：经由多有机溶剂过虑器和活力炭吸附剂，冒水氟化物浓硫酸浓度安稳在8mg/L有以下 关键因素机 例如：pH手动控制系统性、斜管沉定池、板框板框压滤机（工业废水缺水）。 结果是的效果 工程作业三年期数据库统计数据库凸显： 氟化物最低值浓度值：7.2mg/L（降至国家地区条件） COD祛除率：92% 污水含水分率：≤65% 年回笼氟化钙副物料约150吨，体现物资化采取